光刻机为什么中国做不出来（如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗）

本文目录

• 如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗
• 中国大陆无法购买顶级光刻机，为何不找海外同胞做代理人专供华为
• 中国的仿制能力不是一向很强吗，为什么好多高科技仿制不出来
• 如今我国在科技上面临哪些被外国制约的行业
• 偌大一个中国为何干不出来一两个手机处理器
• 我国既然能制造出原子弹，可为啥造不出高端光刻机
• 1965年我国就有了光刻机，为何现在的发展却大幅度落后
• 中国为何造不出光刻机

如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗

专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键。

说白了，专利是用公开的手段换取科技控制权，不公开就没有专利权，所以保密性和专利权一般不可兼得，除非公布的技术方案里，故意隐藏一些技术参数或者关键点，但是这样无法完全保护产生专利保护。

而对于光刻机，ASML有很多压箱底的保密技术，不会轻易泄露，而且高端光刻机的制造难度更在于，它是全球顶尖科技工艺的汇集，并且通过顶级芯片代工企业，在生产实践中的不断验证和强化。

光刻机的制造目前被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子四家所把持。我国虽占一席之地，但只限低端设备。

下面试着分析一下专利对光刻机制造的影响。

光刻机的专利重要吗

日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早，所以，日本的专利申请量最多，而且除了在本国大量布局之外，日本也比较重视在美国、韩国、中国台湾和中国大陆的专利布局。日本光刻有先发优势，在中低端光刻机的研发投入了大量精力，也布局了大量相关专利，所以在中低端光刻技术上，实力还是很雄厚的。

但是ASML后来居上，专注研发，且核心技术绝对保密，在专利建设上，也超过了尼康和佳能。近几年关于高端EUV光刻机的专利数量，排名第一的是老牌王者卡尔蔡司（Carl Zeiss），ASML位列第二名，再依次为海力士、三星，它们同时也是ASML的合作伙伴，日本尼康及佳能分别位列第四及第六位。

所以高端EUV光刻机的专利壁垒还是很高的。但需要注意：ASML深藏不漏的核心机密技术，是更具价值的。

高精度光刻机的技术难点

ASML的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化。它集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。

第一难点在于顶级的镜头来自独一无二的蔡司。

现在世界主流的极紫光刻机的紫外光线来说要想达到13.5纳米的水平，那么物镜的数值口径要达到1.35以上，要达到这个口径很难，因为要加工亚纳米精度的大口径的镜片，用到的最大口径的镜片达到了400毫米。目前只有德国的光学公司可以达到，当然，日本尼康通过购买德国的技术也可以达到。

但浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿，二十余枚镜片的初始结构设计难度极大——不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差。因此，在现阶段国内物镜也无法完全替代进口产品。

第二难点在于13.5nm EUV的极紫光源。

业内巨头台积电及英特尔的7nm工艺使用的是浸入式ArF的光刻设备，但沉浸式光刻在7nm之后的工艺节点，难以再次发展，EUV成为了解决这一问题的关键，目前EUV光刻机光源主要采用的办法是将准分子激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。

ASML也是通过收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，才获得光源技术的保障。

我国在实验室绕过专利壁垒实现了9nm光刻

2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。

据说，与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的 EUV 光刻机相比，我国的新技术使得光刻硬件只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。

但一个产品从实验室，走向最后的落地，何其漫长艰难。

结论是专利不是我们自主高端光刻机的最大难点

光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用，再难也要坚持攻关，为了使我国的半导体产业链不受制于人，我们需要加快光刻机的研制步伐，刻不容缓。我们也看到，国家的科学工作者和企业界在这方面的努力，希望有一天国产光刻机在高端领域实现弯道超车、有所突破。

中国大陆无法购买顶级光刻机，为何不找海外同胞做代理人专供华为

感谢邀约回答！不用找代理或者海外同袍，高端CPU一样可以拥有

高端光刻机目前只有荷兰可以生产，它幕后的股东或者投资商都是欧洲一些发达国家，还有一家股东比较特殊美国。稍后我们重点聊下美国。

前几年美国就以安全为由禁止华为手机在美国售卖，还教唆盟友远离华为。为什么一家民营企业让美国动用国家之力驱赶。答案很明显他们是怕了，华为目前的手机芯片研发和5G的优势，对美国产生了威胁。

说回目前在中国的5G网络，华为老总高瞻远瞩在一个电视节目中无意听到有人聊起未来的网络发展，其中就有人提到了5g，就是这么一个不起眼的回答，让华为高管记住了，并且赋予了实践。经过几年布局，华为的5g可以说是一枝独秀，现在就知道为什么高通发布不久的865芯片还是外挂5g？也许是仓促之下不得以的选择。

所以华为面对的不是荷兰，而是一个经济强国，现在找什么代理人都是白搭，只要美国不松嘴，顶级的光刻机短时间无法引进。

不过目前我有看到一丝希望，以前那些欧洲国家高高在上，他们印象中的中国还停留在60.70年代的古老印象。这次突发的全世界流行肺炎疫情，中国处理快速雷厉风行，这或许能改变他们的思想。以前话语权在他们那边，现在他们经历了一次不亚于战争的疫情危机。目光不会一直停留在美国那边，因为在危机关头有的人是真心帮你，有的人纸上谈兵。

有的小伙伴认为光刻机还是自己研究比较好，其实大家不用担心，我相信好多年前国家就已经在扶持中小企业研究了，只是高端的芯片短时间无法做出，想要弯道超车还是需要累计多年经验和引进人才。

荷兰那边其实是愿意把光刻机出口大陆，他们对外说机器里面有上万的零部件和传感器，复制起来很难，机器一旦拆解，他们后台能马上知道。只是碍于美国，虽然美国股份少的已经不能达到一票否决权，但是我相信不久的将来，或者说有可能今年就会引进一批高端光刻机。

虽然我们还是需要自己研发属于我们自己的光刻机，如果有前辈的参考，不是能更快的研究出我们自己的东西吗。毕竟时间就是金钱，一方面引进设备表达了欧美国家对我们的认可，另一方面能愉快的合作共赢！

中国的仿制能力不是一向很强吗，为什么好多高科技仿制不出来

达芬奇的蒙娜丽莎，你给我仿一幅来看看！口齿轻轻，讲得很容易一样！不似你抄作业这么简单的！

说机仿的电脑仿的美院生仿的，免谈，因为那就是技术！

如今我国在科技上面临哪些被外国制约的行业

大家都知道，中国这些年在不断的崛起，尤其是在科技领域方面不断的创新给我们的生活带来了许多的便捷。北斗导航系统的发展，蛟龙下海，移动支付，共享经济，歼20的问世都让世界为之震惊。是不是中国现在就已经成为了科技大国了呢？是不是就不需要依赖国外的尖端科技了呢？答案肯定是NO。有专家称，中国还在这四个高端技术领域存在着技术缺陷，还需要依赖国外的尖端技术。

第一是用于制造芯片的光刻机。大家都知道目前世界上在这个技术方面最为成熟的就是日本和荷兰这两个国家，他们几乎垄断世界上一半的光刻技供应技术。为什么中国自己造不出来呢？因为这方面技术对半导体的要求很高，中国目前已经加大对半导体的研究，相信过不了多久中国会拥有自己的光刻机技术。

第二是智能手机芯片，目前世界上智能手机芯片用的最多的就是美国的高通芯片，中国虽然也在不断的研制但的确在这方面与国外的还有一段距离，华为的麒麟芯片在性能上已经接近了晓龙，相信在不久会与美国平分秋色，但目前中国仍受制于人。

第三是汽车发动机，大家都知道世界出名的汽车品牌大多都是国外的，因为他们的发动机性能较好，而这方面一直是中国的短板，中国也在不断挖掘这方面的技术，希望中国能够早日打破国外的技术垄断，拥有自己的大品牌。

第四是高端数控机床，大家都知道中国是制造大国，但目前还不是制造强国，所以中国要向强国转变就需要在高端数控机床技术上有所突破，早日转型成制造强国。

虽然中国在高端技术还有不少缺陷，但是在未来中国一定是科技强国，目前中国已经加大对科技人才的投入和培养，相信在不久之后，一定会有质的飞跃。

偌大一个中国为何干不出来一两个手机处理器

制造芯片有多难，很多人都不知道。首先，很难设计。在指甲大小的空间中，放置了数亿个半导体组件，每个组件的数量级均为纳米。

其次，芯片制造也很困难，因为尺寸太小并且需要通过紫外线进行处理，通常被称为“光刻“，世界上只有很少的光刻机制造商。顶级的光刻机在荷兰，一台光刻机要花费数亿美元。当然，有的时候有钱也不一定能买得到。除了在国外对我们进行的技术封锁外，顶级光刻机的生产能力也非常低。最后，还有资金问题。华为在之前的新闻发布会上透露，其采用7nm工艺的麒麟980耗资3亿美元，并用了3年的时间完成了研发工作，看到这三个条件估计很多人都会吓跑吧，说到这里大家应该都知道芯片为什么这么难做了吧，那么问题就来了，为什么华为能成功并做得很好？

实际上，早在2004年，华为就具有远见的开发了自己的芯片！从2009年的第一款手机芯片K1一直到今天的麒麟990 5G，除了毅力，华为的成功也离不开大量的投资和资金给芯片开发商。

现在，华为手机的荣耀证实了麒麟芯片的成功，使中国在世界芯片领域占有一席之地。当然，只有华为还不够，它还需要企业更多的投资来为中国的高科技产业做出贡献。

我国既然能制造出原子弹，可为啥造不出高端光刻机

因为我国在光刻机这一领域上的起步比较晚，制造高端光刻机的难度更大。所以目前我国最先进的光刻机也仅仅还处于7nm这一阶段，和全球顶级的光刻机相比较还有很大的差距。

光刻机别名为曝光机，光刻机是用来制造芯片的一款机器。因此，光刻机对于制造芯片有着非常重要的作用，麒麟芯片、AMD芯片等等都是通过光刻机制作出来的。光刻机的工作原理和硅晶片有一定的关联，因为硅晶片拥有一层光致的抗蚀剂，当紫外光照射到硅晶的表面时就会与之产生反应，这种反应被称作时光刻。当反应发生结束后，需要将没有被光致的抗蚀剂保护的部分进行蚀刻，然后再清洗光致的抗蚀剂。这些步骤需要非常精准处理，操作起来相当复杂。

想要制造出一台高端光刻机所需要的技术是非常严格的，这并不是一个国家就能够制造出来的。如今拥有最先进的光刻机技术的公司是ASML，之所以这个公司能够制造出来高端光刻机，就是因为它得到了整个欧洲和美国的支持。而中国目前还没有这般顶级的技术，所以很难制造出高端光刻机。

如今我国只能够制造出低端的光刻机，这其实已经是一个非常大的进步。至于高端光刻机，尽管如今还没有办法做到，但是我国也一直在研究，或许未来有机遇得到技术支持，从而制造出一台高端光刻机。                                                                                                          

1965年我国就有了光刻机，为何现在的发展却大幅度落后

中国的光刻机之所以会走向落后，是因为经济发展因素、海外企业竞争力过强以及欧美国家对中国进行了技术封锁。

由于华为遭美国封杀之后，华为的芯片供应也出现了很多的问题，由于芯片的制造离不开光刻机，所以光刻机就成为了网友非常关注的东西，只不过令大家没有想到的是，中国曾在光刻机领域达到过世界先进水平。

一、经济发展的原因，导致中国在光刻机领域处于落后地位。

虽然中国当时在光刻机领域拥有着不错的技术水平，但是大部分企业在光刻机领域都无法赚得收入和利润，这导致很多企业逐渐放弃了光刻机的生产和研发，正是由于很多企业不看好光刻机的生产，所以才导致中国在光刻机领域出现了大幅度落后的情况。

二、国外企业的技术优势，使得中国的光刻机处于落后位置。

由于国外企业在光刻机领域，储备了大量的技术专利，这使得国外企业在进行光刻机生产研发时，总能够最大程度降低成本，由于国外生产的光刻机在价格上，远低于中国的国产光刻机，这使得很多芯片生产商都开始选择国外的光刻机，正是由于国外的光刻机生产企业展现出了极强的竞争力，这导致中国的光刻机领域受到了极大的冲击。

三、欧美国家对于中国的技术封锁，使得中国无法提升光刻机的技术。

虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势，但是如果一直无法和国际接轨的话，那么中国在光刻机领域，也不可能取得太大的进步，再加上欧美国家对中国在光刻机领域进行了强力的技术封锁，这导致中国无法在光刻机领域吸收国外的经验和技术，由于缺少国外技术的帮助，中国在光刻机领域逐渐走向了落后。

中国为何造不出光刻机

我国造不出光刻机，有以下三个原因：
1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。
2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持。
3.ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星、台积电，英特尔等等。
所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制。因此，只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机，才能打破这种束缚。